Dielectric breakdown of SiO2 thin films deposited by ion beam induced and plasma enhanced CVD

Barranco Quero, Ángel; Jiménez Marín, Alfonso; Frutos Rayego, Fabián; Cotrino Bautista, José; Yubero Valencia, Francisco; Espinós Manzorro, Juan Pedro; González Elipe, Agustín Rodríguez

doi:http://dx.doi.org/10.1109/ICSD.2001.955633

Ponencia

dc.creator	Barranco Quero, Ángel
dc.creator	Jiménez Marín, Alfonso
dc.creator	Frutos Rayego, Fabián
dc.creator	Cotrino Bautista, José
dc.creator	Yubero Valencia, Francisco
dc.creator	Espinós Manzorro, Juan Pedro
dc.creator	González Elipe, Agustín Rodríguez
dc.date.accessioned	2016-02-08T11:41:04Z
dc.date.available	2016-02-08T11:41:04Z
dc.date.issued	2001
dc.identifier.citation	Barranco, A., Jiménez Marín, A., Frutos Rayego, F., Cotrino Bautista, J., Yubero Valencia, F., Espinós Manzorro, J.P. y González Elipe, A.R. (2001). Dielectric breakdown of SiO2 thin films deposited by ion beam induced and plasma enhanced CVD. IEEE.
dc.identifier.isbn	0-7803-6352-3	es
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11441/34293
dc.format	application/pdf	es
dc.language.iso	eng	es
dc.publisher	IEEE	es
dc.relation.ispartof	2001 IEEE 7th International Conference on Solid Dielectrics, 303-306, June 25-29,2001, Eindhoven, the Netherlands	es
dc.rights	Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional	*
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/	*
dc.title	Dielectric breakdown of SiO2 thin films deposited by ion beam induced and plasma enhanced CVD	es
dc.type	info:eu-repo/semantics/conferenceObject	es
dcterms.identifier	https://ror.org/03yxnpp24
dc.type.version	info:eu-repo/semantics/publishedVersion	es
dc.rights.accessRights	info:eu-repo/semantics/openAccess	es
dc.contributor.affiliation	Universidad de Sevilla. Departamento de Física Aplicada I	es
dc.relation.publisherversion	http://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?tp=&arnumber=955633	es
dc.identifier.doi	http://dx.doi.org/10.1109/ICSD.2001.955633	es
dc.identifier.idus	https://idus.us.es/xmlui/handle/11441/34293

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