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Dielectric breakdown of SiO2 thin films deposited by ion beam induced and plasma enhanced CVD

Autor/esBarranco Quero, Ángel  
Jiménez Marín, Alfonso  
Frutos Rayego, Fabián  
Cotrino Bautista, José                
Yubero Valencia, Francisco  
Espinós Manzorro, Juan Pedro  
González Elipe, Agustín Rodríguez  
DepartamentoUniversidad de Sevilla. Departamento de Física Aplicada I
Fecha de publicación2001
Fecha de depósito2016-02-08
Publicado en 2001 IEEE 7th International Conference on Solid Dielectrics, 303-306, June 25-29,2001, Eindhoven, the Netherlands
ISBN/ISSN0-7803-6352-3
CitaBarranco, A., Jiménez Marín, A., Frutos Rayego, F., Cotrino Bautista, J., Yubero Valencia, F., Espinós Manzorro, J.P. y González Elipe, A.R. (2001). Dielectric breakdown of SiO2 thin films deposited by ion beam induced and plasma enhanced CVD. IEEE.

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Logo Handlehttp://hdl.handle.net/11441/34293
DOIhttps://doi.org/http://dx.doi.org/10.1109/ICSD.2001.955633
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