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Tesis Doctoral
Estudio de la deposición asistida por plasma de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas
(2005-10-19)
La deposición asistida por plasma (PECVD) de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas es un proceso de gran interés debido a su posible aplicación en microelectrónica como materiales de baja constante dieléctrica ...