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Degradación del retraso de propagación en puertas lógicas CMOS VLSI

 

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Autor: Juan Chico, Jorge
Director: Valencia Barrero, Manuel
Bellido Díaz, Manuel Jesús
Barriga Barros, Ángel
Departamento: Universidad de Sevilla. Departamento de Electrónica y Electromagnetismo
Fecha: 2000-10-20
Tipo de documento: Tesis Doctoral
Resumen: La evolución en la tecnología de circuitos VLSI da lugar, entre otras cosas, a un aumento en la escala de integración causado por dos factores. Por una parte, la reducción en las dimensiones mínimas de los transistores y, por otra, el aumento total ...
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Cita: Juan Chico, J. (2000). Degradación del retraso de propagación en puertas lógicas CMOS VLSI. (Tesis Doctoral Inédita). Universidad de Sevilla, Sevilla.
Tamaño: 19.63Mb
Formato: PDF

URI: https://hdl.handle.net/11441/80632

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