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Surface nanostructuring of TiO2 thin films by ion beam irradiation

Opened Access Surface nanostructuring of TiO2 thin films by ion beam irradiation

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Autor: Romero Gómez, Pablo
Palmero Acebedo, Alberto
Yubero Valencia, Francisco
Vinnichenko, M.
Kolitsch, A.
Rodríguez González-Elipe, Agustín
Departamento: Universidad de Sevilla. Departamento de Química Inorgánica
Fecha: 2009
Publicado en: Scripta Materialia, 60, 1-18.
Tipo de documento: Artículo
Resumen: This work reports a procedure to modify the surface nanostructure of TiO2 anatase thin films through ion beam irradiation with energies in the keV range. Irradiation with N+ ions leads to the formation of a layer with voids at a depth similar to the ion-projected range. By setting the ion-projected range a few tens of nanometers below the surface of the film, well-ordered nanorods appear aligned with the angle of incidence of the ion beam. Slightly different results were obtained by using heavier (S+) and lighter (B+) ions under similar conditions.
Cita: Romero Gómez, P., Palmero Acebedo, A., Yubero Valencia, F., Vinnichenko, M., Kolitsch, A. y Rodríguez González-Elipe, A. (2009). Surface nanostructuring of TiO2 thin films by ion beam irradiation. Scripta Materialia, 60, 1-18.
Tamaño: 268.5Kb
Formato: PDF

URI: https://hdl.handle.net/11441/73657

DOI: 10.1016/j.scriptamat.2008.12.014

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