Logotipo del repositorio
Comunidades
Todo idUS
Estadísticas
Sobre idUS
  • Español
  • English
Iniciar sesión
¿Nuevo Usuario? Regístrate. ¿Has olvidado tu contraseña?
  1. Inicio
  2. Investigación
  3. Ciencias
  4. Física Atómica, Molecular y Nuclear
  5. Artículos (Física Atómica, Molecular y Nuclear)
  6. Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO2 from a Si(CH3)3Cl precursor and mixtures Ar/O2 as plasma gas